勤友光電成功在台灣市場推出雷射退火設備用於第三代半導體SiC 製程工藝，雷射退火設備的特點有: 

   1.雷射光垂直照射，照射角度全場一致，焦面不受掃描影響，更為穩定
   2.焦面不受掃描影響，更為穩定
   3.可選配UV與 綠光波長雷射…
   4.可搭配Top Hat光斑均勻性佳 >90+% 且光斑均匀性較佳
   5.光斑尺寸較大，產出WPH 明顯提升近一倍
   6.退火後外觀，重疊均勻、微觀形貌一致、拼接完整
   7.比接觸電阻小
   8.可搭配封閉式正壓N2腔室控制氧含量

​

        基於雷射退火設備有強大的競爭力與量產經驗，勤友光電準備進軍國際市場，將先進技術拓展至業界!
 

​